di AA.VV.
a cura di Pino Scaglione

Dedicato a: Joao Nunes, Plasma Studio, Studio Cecchetto, Studio Gasparrini, Studio RicciSpaini, New York High Line. In questo numero di “monograph.it”, presentiamo cinque studi di architettura, urbanistica e paesaggio, italiani e stranieri che lavorano sul progetto contemporaneo sensibile al paesaggio e al contesto. Diller Scofidio+Renfro con James Corner presentano il progetto e lo stato attuale della High Line di New York, con un racconto fotografico di Alex MacLean. Saggi e riflessioni critiche sul tema del Landscape Sensitive Design e Landscape Urbanism.

Veste editoriale: Brossura
Formato: 29×23
Pagine: 360
Lingua: IT-GB
Anno: 2010
 
ISBN: 9788895623214